Önde gelen Hollandalı yarı iletken ekipman üreticisi ASML (AS:ASML), yenilikçi Yüksek NA EUV litografi sistemi ile “ilk ışık” olarak bilinen önemli bir kilometre taşına ulaştı. Çarşamba günü açıklanan bu başarı, yeni sistemin henüz tam kapasiteyle çalışmamasına rağmen faaliyete geçtiğini gösteriyor.
Gelişme ilk olarak Intel’in teknoloji geliştirme başkanı Ann Kelleher tarafından Salı günü San Jose’de düzenlenen SPIE litografi konferansında yapılan bir sunum sırasında paylaşıldı. Kelleher’in konuşmasının ardından ASML, Yüksek NA EUV aracının ilerlemesine ilişkin açıklamalarının doğruluğunu teyit etti.
Yüksek NA EUV litografi sistemi, daha küçük ve daha güçlü çiplerin üretilmesini sağlaması beklendiğinden, yarı iletken üretim teknolojisinde merakla beklenen bir ilerlemedir. “İlk ışık” terimi, sistemin işlevselliğini doğrulamak için çok önemli bir adım olan, aracı kullanarak bir görüntünün ilk başarılı projeksiyonunu ifade eder.
ASML’nin bu aşamaya ulaşıldığını teyit etmesi, High NA EUV sisteminin geliştirilmesinde önemli bir anı işaret ediyor ve onu nihai tam ölçekli üretim kullanımına yaklaştırıyor.
Reuters bu makaleye katkıda bulunmuştur.
Bu makale yapay zekanın desteğiyle oluşturulmuş, çevrilmiş ve bir editör tarafından incelenmiştir. Daha fazla bilgi için Şart ve Koşullar bölümümüze bakın.
